O setor de semicondutores da China está à beira de enfrentar uma grande disrupção, à medida que legisladores dos EUA avançam com os esforços para proibir a exportação de equipamentos cruciais da ASML, vitais para os processos de litografia.
Legisladores dos EUA propõem proibição das exportações da tecnologia DUV da ASML para a China, visando a Huawei, a SMIC e outras empresas.
Há um longo período, a China vem enfrentando restrições de exportação impostas pelos EUA, principalmente no setor de semicondutores. A situação se agravou quando o governo americano promulgou uma proibição indireta à exportação de equipamentos de ultravioleta extremo (EUV) produzidos pela ASML, na Holanda. Essa medida levou Pequim a intensificar suas iniciativas para desenvolver uma cadeia de suprimentos de chips autossuficiente. No entanto, tais restrições têm dificultado o avanço dos processos de fabricação de semicondutores da China, limitando, na prática, a tecnologia de 5 nm. Diante desses desafios, o recente comunicado à imprensa do Comitê de Relações Exteriores destaca as discussões em andamento sobre a Lei MATCH, que visa estender as proibições para incluir a tecnologia de ultravioleta profundo (DUV).
Essa legislação bipartidária moderniza os controles de exportação dos EUA para garantir que os adversários não possam comprar tecnologia de equipamentos de fabricação de semicondutores (SME) “essenciais” dos Estados Unidos ou de nossos parceiros, tecnologia que eles não conseguem produzir por conta própria.
Ao promover a harmonização dos controles de exportação entre aliados e eliminar brechas legais relacionadas a serviços e entidades específicas, a Lei MATCH preserva a liderança tecnológica dos EUA na competição em IA com a China.
– Senador americano Jim Risch
Compreender o papel crucial dos equipamentos de litografia DUV no cenário de semicondutores da China é essencial. Essa tecnologia continua sendo a única opção viável para fábricas de semicondutores no país. Líderes chineses do setor, como Huawei, SMIC e Hua Hong, juntamente com fabricantes de chips de memória como CXMT e YMTC, dependem amplamente da tecnologia DUV para suas operações. Por exemplo, a SMIC utiliza equipamentos DUV da ASML para alcançar processos de 7 nm com litografia N+1/N+2 por meio de técnicas de multipadrão. Enquanto isso, a CXMT e a YMTC dependem de máquinas DUV para aprimorar suas capacidades de produção de memória. Portanto, qualquer possível proibição da tecnologia DUV poderia prejudicar seriamente os esforços de expansão da capacidade produtiva dessas empresas.
A Lei MATCH sugere restrições à “venda ou manutenção” da tecnologia de imersão em UV profundo (DUV), argumentando que esse equipamento está sendo utilizado para aprimorar as capacidades militares da China. Essa lei também propõe que todas as entidades chinesas que utilizam a tecnologia DUV enfrentem limitações semelhantes às da Lei de Entidades vigente, restringindo seu acesso aos mercados internacionais. Embora a Lei MATCH esteja atualmente em tramitação legislativa e ainda não tenha sido promulgada, sua perspectiva sinaliza sérias implicações para um segmento crucial da cadeia de suprimentos de semicondutores da China.
Curiosamente, a aquisição de DUV de fornecedores nacionais na China deverá aumentar nos próximos trimestres, com empresas como a CXMT e a YMTC investindo significativamente em novas instalações de produção. No entanto, de acordo com o último relatório fiscal da ASML, a receita chinesa – proveniente principalmente das vendas de DUV – representou quase 20% da receita total da empresa. Com a Lei MATCH potencialmente formalizando restrições, a ASML poderá enfrentar novos desafios geopolíticos, já que terá limitações no acesso a um dos maiores mercados de semicondutores do mundo.
A dependência da China na tecnologia DUV aumentou nos últimos anos. Embora a indústria nacional de semicondutores tenha avançado no desenvolvimento de equipamentos de litografia próprios, esses esforços se concentraram principalmente em tecnologias mais antigas, como o processo de 28 nm. Os processos de ponta continuam fortemente dependentes da tecnologia inovadora da ASML, o que torna as implicações das ações legislativas dos EUA particularmente problemáticas para a fabricação de semicondutores na China.
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