El sector chino de semiconductores está al borde de sufrir una importante disrupción, ya que los legisladores estadounidenses impulsan iniciativas para prohibir la exportación de equipos cruciales de ASML, vitales para los procesos de litografía.
Legisladores estadounidenses proponen prohibir las exportaciones de tecnología DUV de ASML a China, afectando también a Huawei, SMIC y otras empresas.
Durante un largo periodo, China ha lidiado con las restricciones a la exportación impuestas por Estados Unidos, especialmente en la industria de los semiconductores. La situación empeoró cuando el gobierno estadounidense prohibió indirectamente la exportación de equipos de ultravioleta extremo (EUV) fabricados por ASML en los Países Bajos. Esta medida impulsó a Beijing a intensificar sus iniciativas para desarrollar una cadena de suministro de chips autosuficiente. Sin embargo, dichas restricciones han obstaculizado la capacidad de China para avanzar en sus procesos de fabricación de semiconductores, limitando efectivamente al país a una capacidad de 5 nm. Ante estos desafíos, el reciente comunicado de prensa del Comité de Relaciones Exteriores destaca los debates en curso sobre la Ley MATCH, cuyo objetivo es extender las prohibiciones para incluir la tecnología de ultravioleta profundo (DUV).
Esta legislación bipartidista moderniza los controles de exportación de EE. UU.para garantizar que los adversarios no puedan comprar tecnología de equipos de fabricación de semiconductores (SME, por sus siglas en inglés) que constituyen puntos críticos en Estados Unidos o en nuestros socios, tecnología que no puedan fabricar ellos mismos.
Al promover la armonización de los controles de exportación entre los aliados y al cerrar las lagunas legales relativas a los servicios y a las entidades específicas, la Ley MATCH preserva el liderazgo tecnológico de Estados Unidos en la competencia de inteligencia artificial con China.
– Senador estadounidense Jim Risch
Es fundamental comprender el papel crucial de los equipos de litografía DUV en el sector de semiconductores de China. Esta tecnología sigue siendo la única opción viable para las plantas de fabricación en el país. Empresas líderes en semiconductores chinas como Huawei, SMIC y Hua Hong, junto con fabricantes de chips de memoria como CXMT y YMTC, dependen en gran medida de la tecnología DUV para sus operaciones. Por ejemplo, SMIC utiliza equipos DUV de ASML para lograr procesos N+1/N+2 de 7 nm mediante técnicas de multipatrón. Por su parte, CXMT y YMTC dependen de las máquinas DUV para aumentar su capacidad de producción de memoria. Por lo tanto, cualquier posible prohibición de la tecnología DUV podría obstaculizar gravemente los esfuerzos de expansión de capacidad de estas empresas.
La Ley MATCH propone restricciones a la venta o el mantenimiento de la tecnología de inmersión DUV, argumentando que dicho equipo se utiliza para modernizar las capacidades militares de China. Esta ley también plantea que todas las entidades chinas que utilizan tecnología DUV se enfrentarían a limitaciones similares a las de la Ley de Entidades vigente, restringiendo su acceso a los mercados internacionales. Si bien la Ley MATCH se encuentra actualmente en trámite legislativo y aún no ha sido promulgada, su posible entrada en vigor augura graves consecuencias para un segmento crucial de la cadena de suministro de semiconductores de China.
Curiosamente, se preveía un aumento en la adquisición de DUV a proveedores nacionales en China durante los próximos trimestres, con empresas como CXMT y YMTC invirtiendo significativamente en nuevas instalaciones de producción. Sin embargo, según el último informe financiero de ASML, los ingresos procedentes de China —principalmente de la venta de DUV— representaron casi el 20 % de los ingresos totales de la compañía. Con la posible formalización de restricciones por parte de la Ley MATCH, ASML podría enfrentarse a nuevos desafíos geopolíticos, ya que tiene dificultades para acceder a uno de los mercados de semiconductores más grandes del mundo.
La dependencia de China de la tecnología DUV ha aumentado en los últimos años. Si bien la industria nacional de semiconductores ha avanzado en el desarrollo de equipos de litografía propios, estos esfuerzos se han centrado principalmente en tecnologías más antiguas, como el proceso de 28 nm. Los procesos de gama alta siguen dependiendo en gran medida de la tecnología innovadora de ASML, lo que hace que las implicaciones de las medidas legislativas estadounidenses sean particularmente problemáticas para la fabricación china de semiconductores.
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