삼성전자는 향후 시장 발전을 견인할 첨단 기술을 선보이며 신흥 3D D램 시장 공략에 나선다.
삼성, 3D DRAM 기술 선도, 10년 안에 솔루션 출시 예정
DRAM 산업이 비교적 평온한 시기에도 불구하고 기업들은 최근 분기의 높은 재고와 낮은 소비자 수요로 인해 여전히 긴박한 재정 상황에 직면해 있었습니다.
이제 상황이 개선되면서 노력은 차세대 R&D로 전환되었습니다. 삼성은 내년 안에 구현될 것으로 예상되는 자체 3D DRAM 구현을 발표했습니다.
프레젠테이션 슬라이드를 검토한 결과 DRAM 업계가 10nm 미만 압축 라인으로 전환하고 있음이 분명해졌습니다. 삼성전자는 첨단 DRAM 기술 개발 정체를 극복하기 위해 부품 배치를 다양화하는 수직 채널 트랜지스터(Vertical Channel Transistors)와 적층형 DRAM(Stacked DRAM)이라는 두 가지 새로운 기술을 구현하려고 합니다. 이러한 혁신적인 방법은 궁극적으로 장치 영역 사용량을 줄이고 결과적으로 성능을 향상시킵니다.
마찬가지로 삼성전자도 스택형 D램 개념을 활용해 메모리 용량을 늘리겠다는 계획이다. 이 접근 방식을 통해 회사는 더 높은 저장 공간 비율을 달성하여 향후 칩 용량을 100GB까지 늘릴 수 있습니다. 3D DRAM 시장은 2028년까지 1,000억 달러에 이를 것으로 예상됩니다. 삼성의 초기 개발은 한국 기업이 앞으로 DRAM 산업을 주도할 수 있음을 암시하지만, 아직 그러한 예측을 하기에는 너무 이르습니다.
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