최근 보고서에 따르면 SMIC(Semiconductor Manufacturing International Corporation)가 자사 최초의 심자외선(DUV) 리소그래피 장비를 테스트하고 있는 것으로 나타나, 중국의 반도체 산업이 상당한 발전을 앞두고 있는 것으로 보입니다.
AI 시장 수요 충족을 위한 중국 칩 제조 야망, 자체 DUV 개발 추진
중국 내 반도체 수요 급증은 혁신적인 컴퓨팅 기술 개발을 목표로 하는 국내 AI 기업들의 급속한 성장에 크게 기인합니다.이러한 성장세를 더욱 강화하기 위해 중국 정부는 주요 산업들이 자립적인 생산 능력으로 전환하도록 적극 장려하고 있습니다.파이낸셜 타임스 보도 에 따르면, SMIC는 상하이에 본사를 둔 스타트업 율량성(Yuliangsheng)이 개발한 DUV 리소그래피 장비를 시험하고 있습니다.이러한 시험이 성공한다면, 첨단 반도체 제조 분야에서 중국의 야심에 중요한 전환점이 될 수 있습니다.
SMIC는 전통적으로 리소그래피 장비를 네덜란드 기업 ASML에 크게 의존해 왔습니다.그러나 현재 미국의 수출 규제로 인해 SMIC는 초기 침지형 DUV(early-immersion DUV)와 같은 구형 DUV 기술만 사용할 수 있으며, 이를 통해 7nm 공정까지 생산 역량을 확보할 수 있었습니다.이러한 의존성과 서구 기술을 활용한 생산 확대의 한계로 인해 SMIC는 국내 솔루션으로의 전환을 불가피하게 되었습니다.현재 SMIC는 Yuliangsheng의 DUV 장비를 활용한 7nm 생산 테스트에 집중하고 있습니다.
이러한 국산 DUV 시스템이 5nm 공정까지 생산을 가능하게 할 수 있다는 주장이 있지만, 현재로서는 놀라울 정도로 낮은 수율에 시달리고 있습니다.이러한 문제는 심자외선(Deep Ultraviolet) 기술을 사용하여 이처럼 작은 노드 크기를 구현하는 데 따르는 복잡성으로 인해 발생하며, 여러 패터닝 공정이 필요하고 이로 인해 정렬 불일치가 누적되어 수율 저하로 이어질 수 있습니다.그럼에도 불구하고 중국 반도체 제조업체의 주요 목표가 생산 능력 향상이라는 점을 고려할 때, SMIC는 과거와 마찬가지로 낮은 수율도 감수할 준비가 되어 있을 수 있습니다.
중국의 칩 생산 확대 전략은 근본적으로 AI 부문의 수요 증가에 따른 것입니다.최근 보고서에 따르면 제조업체들은 시장 수요를 충족하기 위해 AI 칩 생산량을 기하급수적으로 늘리고자 하는 것으로 나타났습니다.
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