Il settore cinese dei semiconduttori rischia di subire una grave crisi, poiché i legislatori statunitensi stanno portando avanti iniziative per vietare l’esportazione di apparecchiature cruciali da ASML, essenziali per i processi di litografia.
I legislatori statunitensi propongono il divieto di esportazione della tecnologia DUV di ASML verso la Cina, prendendo di mira Huawei, SMIC e altre aziende.
Da tempo la Cina si trova a dover affrontare le restrizioni all’esportazione imposte dagli Stati Uniti, in particolare nel settore dei semiconduttori. La situazione è peggiorata quando il governo statunitense ha emanato un divieto indiretto sull’esportazione di apparecchiature a ultravioletti estremi (EUV) prodotte da ASML nei Paesi Bassi. Questa azione ha spinto Pechino a intensificare le proprie iniziative per sviluppare una filiera di approvvigionamento di chip autosufficiente. Tuttavia, tali restrizioni hanno ostacolato la capacità della Cina di migliorare i propri processi di produzione di semiconduttori, limitando di fatto il Paese alla tecnologia a 5 nm. Alla luce di queste difficoltà, il recente comunicato stampa della Commissione per le relazioni estere evidenzia le discussioni in corso sul MATCH Act, che mira ad estendere i divieti anche alla tecnologia a ultravioletti profondi (DUV).
Questa legislazione bipartisan modernizza i controlli sulle esportazioni statunitensi per garantire che gli avversari non possano acquistare dagli Stati Uniti o dai nostri partner tecnologie chiave per la produzione di apparecchiature per la produzione di semiconduttori (PMI) che non sono in grado di produrre autonomamente.
Promuovendo l’armonizzazione dei controlli sulle esportazioni tra gli alleati e colmando le lacune in materia di servizi e specifiche per singole entità, il MATCH Act preserva il primato tecnologico degli Stati Uniti nella competizione con la Cina nel campo dell’intelligenza artificiale.
– Senatore statunitense Jim Risch
Comprendere il ruolo cruciale delle apparecchiature di litografia DUV nel panorama dei semiconduttori in Cina è fondamentale. Questa tecnologia rimane l’unica opzione praticabile per gli impianti di produzione (fab) del paese. I leader cinesi del settore dei semiconduttori, come Huawei, SMIC e Hua Hong, insieme ai produttori di chip di memoria come CXMT e YMTC, si affidano ampiamente alla tecnologia DUV per le loro attività. Ad esempio, SMIC utilizza le apparecchiature DUV di ASML per realizzare processi di classe N+1/N+2 a 7 nm tramite tecniche di multi-patterning. Allo stesso tempo, CXMT e YMTC dipendono dalle macchine DUV per potenziare le proprie capacità di produzione di memorie. Pertanto, un eventuale divieto della tecnologia DUV potrebbe ostacolare seriamente gli sforzi di espansione della capacità produttiva di queste aziende.
Il MATCH Act propone restrizioni sulla “vendita o assistenza” della tecnologia a immersione DUV, sostenendo che tali apparecchiature vengono utilizzate per potenziare le capacità militari della Cina. Questa legge prevede inoltre che tutte le entità cinesi che utilizzano la tecnologia DUV siano soggette a limitazioni simili a quelle previste dall’attuale Entity Act, restringendo il loro accesso ai mercati internazionali. Sebbene il MATCH Act sia attualmente in fase di approvazione legislativa e non sia ancora stato promulgato, la sua imminente entrata in vigore preannuncia serie implicazioni per un segmento cruciale della catena di approvvigionamento dei semiconduttori in Cina.
È interessante notare che, secondo le previsioni, gli acquisti di semiconduttori DUV da fornitori nazionali in Cina sarebbero aumentati nei prossimi trimestri, con aziende come CXMT e YMTC che avrebbero investito significativamente in nuovi impianti di produzione. Tuttavia, secondo l’ultimo bilancio di ASML, i ricavi provenienti dalla Cina – principalmente dalle vendite di semiconduttori DUV – rappresentavano quasi il 20% del fatturato totale dell’azienda. Con il MATCH Act che potrebbe formalizzare le restrizioni, ASML potrebbe trovarsi ad affrontare nuove sfide geopolitiche, in quanto si troverebbe limitata nell’accesso a uno dei più grandi mercati mondiali dei semiconduttori.
Negli ultimi anni la dipendenza della Cina dalla tecnologia DUV è aumentata. Sebbene l’industria cinese dei semiconduttori abbia compiuto progressi nello sviluppo di apparecchiature di litografia interne, questi sforzi si sono concentrati principalmente su tecnologie più datate, come il processo a 28 nm. I processi di fascia alta rimangono fortemente dipendenti dall’innovativa tecnologia di ASML, il che rende le implicazioni delle azioni legislative statunitensi particolarmente problematiche per la produzione cinese di semiconduttori.