Samsung lanza pruebas de equipos EUV en la planta de Taylor en marzo con 7.000 empleados en el sitio para acelerar el desarrollo de GAA de 2 nm

Estados Unidos se prepara para convertirse en líder en la fabricación avanzada de semiconductores, ya que Samsung Electronics se prepara para las pruebas de su equipo de ultravioleta extremo (EUV) en sus instalaciones de Taylor, Texas, a partir de marzo. Esta iniciativa forma parte de la estrategia general de Samsung para facilitar una transición fluida a la producción, con un equipo dedicado a supervisar la instalación y configuración de esta maquinaria de vanguardia. Los avances actuales indican que Samsung avanza hacia su objetivo de producción en masa de obleas Gate-All-Around (GAA) de 2 nm de próxima generación en territorio estadounidense.

Ambiciosos planes de futuro para Samsung en Texas

Según un informe del Korea Economic Daily, la primera fase de la planta de Taylor será fundamental para las pruebas e instalación de herramientas cruciales para vehículos eléctricos de alta potencia (EUV), y se prevé que la fabricación a gran escala comience en el segundo semestre de 2026. Se desconocen los detalles sobre el posible inicio de la producción del Exynos 2600 o de cualquier otro sistema en chip (SoC) en esta planta. Sin embargo, se ha confirmado que los chips para vehículos autónomos de Tesla, AI5 y AI6, se producirán aquí gracias a un importante acuerdo de colaboración de 16.500 millones de dólares.

Además, Samsung planea solicitar un Certificado de Ocupación Temporal (TCO) para la Planta 1, un trámite burocrático crucial que confirma que las instalaciones cumplen con las normas de seguridad necesarias. Para agilizar la finalización de la planta, Samsung ha desplegado a aproximadamente 7000 trabajadores en las instalaciones, con un nuevo edificio de seis plantas diseñado para albergar a 1000 empleados una vez finalizado. Cabe destacar que las instalaciones de Taylor abarcan la impresionante superficie de 4, 85 millones de metros cuadrados, superando a las otras dos grandes plantas de la compañía en Pyeongtaek y Hwaseong.

Invertir en la maquinaria EUV de ASML tiene un coste elevado, pero es una inversión esencial para que Samsung alcance tasas de rendimiento respetables en la producción en masa de obleas de GAA de 2 nm. Actualmente, el rendimiento de sus procesos de litografía de vanguardia ronda el 50 %, y mejorar estas cifras es fundamental para el objetivo de la compañía de alcanzar la rentabilidad de sus operaciones de fundición para 2027. Dado que cada máquina EUV cuesta aproximadamente 500 000 millones de wones (unos 339, 3 millones de dólares), este compromiso financiero es significativo, especialmente considerando que Samsung enfrentó un déficit de 680 millones de dólares durante el tercer y cuarto trimestre de 2025.

Afortunadamente, la visión estratégica de Samsung le ha permitido asegurar el espacio adecuado en el campus de Taylor para una futura expansión, con la posibilidad de albergar hasta 10 plantas adicionales. Anteriormente, este centro se centraba en la producción de 4 nm; sin embargo, la reticencia de TSMC a introducir tecnología avanzada en el mercado estadounidense ha impulsado a Samsung a aprovechar esta oportunidad, con un objetivo inicial de producción en masa de 50 000 obleas.

Para más detalles, puede consultar la fuente original: Korea Economic Daily

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