在競爭激烈的半導體製造領域，三星和台積電長期以來一直被公認為領導者，尤其是在它們為2奈米晶圓的量產鋪路之際。然而，一家引人注目的新晉企業——日本Rapidus公司，正在努力躋身這一精英行列，儘管其發展速度比更成熟的競爭對手落後了一年。最近的報告證實，Rapidus已在其新建的配備200個先進生產單元的工廠中啟動2奈米GAA晶圓的試生產。幸運的是，該公司並未受到美國出口限制的阻礙，這使得它能夠獲得這些尖端晶圓量產所需的最新技術。
Rapidus IIM-1 鑄造廠的進步
Rapidus 是日本率先整合先進極紫外線 (EUV) 微影系統用於 2 奈米及以下晶圓生產的企業之一，旨在引領該地區的半導體製造業。透過採用單晶圓前端處理方法，該公司可以優化單一晶圓的特性，從而大幅降低數百萬的生產成本。這項創新技術不僅簡化了調整流程，也增強了資料擷取能力，有助於改善 AI 模型訓練，進而提高良率。
尤其令人印象深刻的是Rapidus在過去幾年的快速發展。該公司於2023年9月進軍先進半導體領域，預計2024年無塵室設施將完工。到2025年6月，Rapidus計劃投入200套先進的晶圓生產系統，從而成為這一高科技領域的關鍵參與者。
為了支持其努力，Rapidus 也正在開發與其 IIM-1 代工廠 2nm 生產能力相符的製程開發套件，該套件計劃於 2026 年第一季向客戶推出。這將使客戶幾乎可以立即開始製作其設計原型，並計劃於 2027 年實現量產。儘管與三星和台積電等巨頭相比，Rapidus 進入 2nm 製造領域可能略晚，但它的進入鞏固了其在專注於這項尖端技術的獨家公司集團中的地位。
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