矽開利是中國領先的晶片生產設備製造商，該公司推出了一系列工具，旨在大幅提升中國的半導體製造能力。
SiCarrier 的雄心勃勃舉措將顛覆全球半導體市場
近年來，在強有力的國家戰略減少對外國技術的依賴的推動下，中國在半導體領域的雄心壯志不斷增強。華為和中芯國際等主要參與者已率先發起這項舉措，但矽卡里爾的許多創新貢獻卻基本上被忽視了。在華為的支持下，矽開利專注於製造重要的晶片製造設備。該公司的最新產品在中國 SEMICON 2025 上展出，彰顯了其提升本土半導體生產的決心。
SiCarrier/華為大規模發布。他們全力以赴pic.twitter.com/SgaPcvwjUU
— Zephyr (@zephyr_z9) 2025 年 3 月 26 日
SiCarrier 最近推出的目錄重點介紹了各種先進的晶片製造工具，包括在積體電路 (IC) 製造中發揮關鍵作用的快速熱處理 (RTP) 系統。儘管目錄涵蓋了廣泛的設備選擇，但明顯缺少光刻工具，這表明 SiCarrier 可能熱衷於對其在該領域的進步保密。這項策略性產品陣容將與 ASML、應用材料和 LAM Research 等產業巨頭競爭，儘管這些工具在國內市場的有效性仍不確定。
SEMICON期間，矽開瑞總裁杜立軍宣布，其國產設備已經可以生產5nm晶片。然而，非光學技術的實施可能會對成品率造成挑戰，可能導致生產成本高於國際同業。為了解決這些問題，SiCarrier 正在與中芯國際和華為合作。鑑於實現半導體自給自足對中國至關重要，預計該領域很快就會取得重大突破。
我們可以使用非光學技術，即使用我們的製程設備來解決一些光刻問題。
– 杜麗君，路透社
SiCarrier 的總體目標是將半導體生產平衡從荷蘭等以晶片製造工具領先供應商而聞名的國家轉移出去。先前的報告表明，該公司正在積極與華為和深圳政府合作開發客製化極紫外線 (EUV) 原型。這些原型專注於雷射誘導放電等離子體 (LDP) 技術，這代表中國朝著創建自己的 EUV 光刻系統的願望邁出了關鍵一步，而 EUV 光刻系統是開發先進製造節點的關鍵要素。
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