三星將於 3 月推出首台用於 1.4nm 製程的高數值孔徑 EUV 機器,可望規避關稅,與台積電競爭

三星將於 3 月推出首台用於 1.4nm 製程的高數值孔徑 EUV 機器,可望規避關稅,與台積電競爭

隨著三星進軍2奈米以下晶圓的開發與量產,其在收購ASML的高數值孔徑EUV微影機方面面臨巨大的財務障礙。然而,這項投資對於三星保持與其在半導體領域的主要競爭對手台積電的競爭力至關重要。據報道,為了緩解由此帶來的財務壓力,韓國政府正計劃取消相關進口設備的關稅,這將有助於三星實現其生產目標。值得注意的是,三星已採取積極措施,自今年3月起安裝高數值孔徑EUV微影機,以促進1.4奈米晶圓的生產。

三星追加高NA EUV機器訂單,加速2nm GAA晶片生產

儘管先前有傳言稱三星將取消其 1.4nm 製程開發,但看來三星已成功應對即將推出的 2nm GAA 節點帶來的良率挑戰。 Exynos 2600 預計將於今年稍後投入量產,這將使三星能夠證明其下一代架構能夠匹敵台積電 2nm 技術的性能,同時實現更高的產量。在成功量產後,三星計劃拓展業務,接受尋求這項先進技術的客戶訂單。

根據《經濟新聞日報》報道,韓國政府取消關稅的策略旨在提升三星等本土企業在全球市場的競爭力。 ASML的每台高數值孔徑EUV微影機售價高達約4億美元,因此取消關稅是降低總成本的關鍵因素。這項財務策略對三星至關重要,因為它渴望與台積電並駕齊驅,提升其在半導體產業的地位。

三星的承諾包括利用從阿斯麥採購的 EXE:5000 機器,該機器已安裝在其華城工廠,用於 1.4nm 製程生產。在專注於 2nm 晶圓製造的近期目標的同時,三星還制定了雄心勃勃的計劃,計劃在 2027 年前實現 1.4nm 晶片的量產,這為三星在不久的將來建立相對於台積電的競爭優勢提供了一個重要的窗口。

欲了解更詳細內容,讀者可查閱《經濟新聞日報》原文。

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