英特爾提高 18A 產量,超越三星的 2nm 工藝,但仍落後於台積電的 N2 技術

英特爾提高 18A 產量,超越三星的 2nm 工藝,但仍落後於台積電的 N2 技術

英特爾方面取得了令人振奮的進展,據報道,該公司的18A過程已實現超越競爭對手的良率。這項進展標誌著英特爾在2025年底實現大批量生產(HVM)的目標上邁出了重要一步。

英特爾 18A 良率預計在 2025 年第四季實現 HVM;與 Panther Lake SoC 初步集成

儘管這些良率備受關注,但務必謹慎對待這些資訊。英特爾良率表現的詳細數據仍未公開。據KeyBanc Capital Markets稱,分析師認為英特爾 18A 節點的開發進展迅速,其良率據稱已超過三星的 SF2 工藝,但仍落後於台積電的 N2 技術。

我們持續收到英特爾 18A 製程的建設性回饋,並獲悉目前的良率已從上一季的 50% 提升至 55%。相較之下,三星的 2nm 製程 (SF2) 良率約為 40%,略有提升,但低於台積電的 N2 製程,後者的良率目前為 65%。

在當前關鍵時刻,持續提升良率對英特爾至關重要,尤其是在18A節點主要專注於內部專案(例如Panther Lake架構)的情況下。實現這些目標對英特爾的策略至關重要。 KeyBanc進一步指出,英特爾正在為即將推出的行動CPU擴大18A節點的量產規模,預計2025年第四季良率將達到70%。儘管英特爾的良率效率可能無法超越台積電,但強大的製造節點對公司的未來至關重要。

英特爾18A工藝

儘管先前英特爾 18A 製程節點曾受到質疑,但其內部應用能力足以證明這項製程的成功。英特爾的策略是先利用 18A 技術搶佔高效能細分市場的份額,然後再透過後續的 14A 節點拓展至外部客戶。這項策略轉變旨在提升英特爾的產品聲譽,從而與台積電的 A14 產品競爭。隨著市場預期的不斷升溫,Panther Lake 處理器在消費市場的表現備受期待,這得益於先前創新帶來的樂觀情緒。

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