美國晶片產業的格局正處於重大變革的邊緣。在此背景下，一家名為Substrate的新創公司正積極進軍光刻領域，該領域長期以來一直由荷蘭知名企業ASML主導。
Substrate 的創新方法：X射線光刻作為一種經濟高效的替代方案
目前，美國製造商嚴重依賴ASML的先進晶片光刻設備，因為國內尚未出現替代產品。彭博社最近的一篇報導揭示了Substrate公司旨在降低這種依賴性的雄心。這家新創公司正在開發一種能夠與ASML的極紫外線（EUV）光刻機相媲美的光刻設備，它採用粒子加速器產生的短波長X射線，而非傳統的EUV光。
Substrate公司正在建造下一代晶圓代工廠，旨在重振美國在半導體生產領域的霸主地位。為此，我們將運用我們的技術——一種新型的先進X射線光刻技術——為其提供動力。美國發明了半導體，我們將再次引領產業。 pic.twitter.com/ 1rgnWSYYZG
— Substrate (@substrate) 2025年10月28日
創新技術的推出往往既令人興奮又令人質疑，Substrate 的舉措也不例外。該公司旨在利用 X 射線技術，打造可取代 EUV 技術的國產方案，並提供更經濟實惠的解決方案。憑藉包括 Peter Thiel 的 Founders Fund 在內的 1 億美元雄厚資金支持，Substrate 僅憑其先進的光刻技術理念，估值就已達到 10 億美元。
Substrate公司聲稱其技術能夠大幅降低使用ASML EUV設備的成本。這家新創公司已向業內人士展示了其技術，並獲得了業內人士的一致好評。 Substrate的核心策略是利用波長比13.5奈米EUV更短的X射線，實現更有效率的多重曝光技術。據該公司稱，他們透過可靠的掩模/光阻製程，大幅降低了晶片光刻的成本。
然而，Substrate 的未來發展取決於其能否有效地將 X 射線光刻技術整合到大規模生產 (HVM) 流程中。由於 EUV 技術在業界已相當成熟，這家新創公司在早期推廣其創新技術方面可能會面臨挑戰。儘管這項舉措代表著美國在光刻領域提升國內生產能力的重要一步，但現階段就斷言能夠迅速減少對 ASML 的依賴可能過於樂觀。
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