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高階光刻設備需求下滑，美國銀行重新評估 ASML 股價目標
由於市場對其先進的高數值孔徑極紫外線 (EUV) 微影機的需求顯著放緩，美國銀行已調整其對領先光刻設備製造商 ASML 的目標股價。更新後的目標股價為 759 歐元，較之前的 795 歐元下調。此次調整同時下調了 2026 年和 2027 年每股盈餘 (EPS) 的預期。
美銀的這項決定是在英特爾一位高層近期發表言論之後做出的，該高層表示，光刻技術在尖端晶片製造中的作用正在減弱。光刻是晶片生產的關鍵初始步驟，在此過程中，設計被壓印到矽片上，以製造數百萬個電晶體。這些光刻機的分辨率是最終可生產的電路尺寸的關鍵決定因素。
現代晶片製造技術越來越重視先進的電晶體設計，這些設計注重垂直分層而非水平擴展。這種設計策略削弱了晶片製造對解析度的重視。因此，與先前支援7奈米及以下節點生產的EUV系統相比，ASML最新的高NA EUV設備對於最新一代晶片製造技術而言可能不再那麼重要。
儘管目標股價下調，但美國銀行認為 ASML 的預期企業價值與營業收入之比（EVP/OIT）為 19.6，仍然具有吸引力，儘管低於 22 的歷史平均值。該比率在該行的股票推薦中發揮著重要作用；美國銀行在調整目標股價的同時維持「買入」評級。此次估值調整受到預期收益下降的影響，美國銀行預計每股收益將下降高達 5%。
美國銀行的謹慎態度源於多種因素，包括高NA EUV掃描儀需求停滯、三星在獲得NVIDIA內存產品批准方面面臨的挑戰、英特爾持續存在的生產問題（尚未開始大規模生產其最新的18A晶片製造技術）以及美國對中國晶片製造設備出口的潛在限制。
此外，美國銀行預測，ASML 在 2026 年將僅交付四台高數值孔徑 EUV 光刻機，這意味著預期出貨量將大幅下降 50%。然而，儘管面臨這些挑戰，對全球人工智慧晶片市場的樂觀情緒支撐了美國銀行對 ASML 的長期展望。該銀行預測，到 2030 年，人工智慧晶片的需求可能飆升至 7, 950 億美元，這可能會刺激對光刻設備的需求成長，尤其是考慮到人工智慧晶片的製造需要採用最先進的技術，以滿足嚴格的功率和性能標準。
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