隨著台積電和三星爭奪2奈米製程的先機，半導體產業霸主地位的競爭愈演愈烈。同時，來自日本的Rapidus公司已成為引人注目的競爭者，提升了日本在尖端光刻技術領域的影響力。近期，Rapidus公司宣布已啟動2奈米製程的試生產，並計劃逐步建立生產線以提高產量。然而，與三星在3奈米全環繞閘極（GAA）製程方面面臨的挑戰類似，Rapidus公司也面臨許多不確定性。專家警告稱，該公司距離全面量產只有兩年。如果無法實現這一目標，日本可能會落後於全球競爭對手。
Rapidus 必須在 2027 年啟動 2nm 量產
為了提升其2奈米製程能力，Rapidus於去年12月安裝了極紫外光（EUV）光刻機。這些光刻機對於量產先進的半導體晶圓至關重要。安裝完成後，該公司於7月18日自豪地展示了其首台原型機，標誌著其雄心勃勃地邁入半導體生產的精英層級。日本政府透過推動各種政策舉措，在支持Rapidus實現其宏偉目標方面發揮了關鍵作用。
日本政府承諾向 Rapidus 提供總計 1.7 兆日圓（約 120 億美元）的巨額投資，以助力其實現 2 奈米晶圓的量產，無疑為該公司帶來了巨大的推動力。預計在 2025 年剩餘時間內，日本政府將提供約 1, 000 億日圓（約 6.776 億美元）的支持，用於實現 2 奈米晶圓的量產。儘管擁有這些慷慨的資源，該公司仍面臨潛在的挫折，這引發了業內專家的謹慎看法。
日本半導體與數位產業戰略委員會委員、熊本大學教授若林秀樹表示擔憂，他表示，如果Rapidus計畫失敗，可能會促使日本的半導體和材料公司遷往海外。這種遷移可能會嚴重削弱日本在市場上的競爭優勢。
在其他國家設立生產設施不僅能幫助這些地區僱用技術工人，也能讓外國政府取得尖端技術的敏感資訊。吸引Rapidus在日本以外運作的因素可能包括能夠以更低的成本獲得更廣泛的專業技能人才庫。
此外，渴望半導體技術進步的國家可能會提供誘人的激勵措施來吸引像 Rapidus 這樣的製造商。然而，鑑於目前日本政府的強力支持，Rapidus 似乎不太可能選擇將業務遷往海外。
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