中芯國際採用7奈米製程生產的麒麟9000S在半導體領域掀起了波瀾，彰顯了中國致力於縮小與美國技術差距的決心。儘管去年的報導顯示中芯國際即將實現5奈米製程，但華為最先進的系統級晶片（SoC）尚未從較舊的7奈米光刻技術過渡。然而，新的說法顯示這種情況可能很快就會改變，因為據報導道中芯國際5奈米製程的良率在60%至70%之間。然而，這些數據仍飽受質疑，令業界充滿期待。
最新傳聞：中芯國際 5nm 產量與三星 3nm GAA 技術相比
這項猜測是由微博上一位名為「Fixed Focus Digital」的爆料人引發的，他聲稱中芯國際的良率指標標誌著中國晶圓製造能力的關鍵性轉變。據稱，這些良率與三星自主研發的3奈米GAA製程相當，該製程為Galaxy Z Flip 7中的Exynos 2500晶片提供支援。然而，外界對此反應不一，有些人強烈質疑這些說法。
@Jukanlosreve提出了一個值得注意的質疑，他與一位中國保密消息人士進行了交流。在此次討論中，他暗示 Fixed Focus Digital 的斷言可能毫無根據。值得注意的是，@Jukanlosreve 先前曾表示，中芯國際正致力於在 2025 年前完成其 5 奈米半導體製程的開發，但他預測，由於依賴較舊的深紫外線 (DUV) 設備，而非較新的極紫外線 (EUV) 技術（該技術對於在此類尺寸上實現成本
鑑於中芯國際實現5奈米量產的時間表，對傳聞良率數據的質疑並非毫無道理。此外，搭載鴻蒙OS筆記型電腦的華為X90目前採用的是中芯國際的7奈米製程。雖然70%的良率通常有利於商業成功，但謹慎對待Fixed Focus Digital的說法仍是明智之舉，尤其是在中芯國際尚未展示出足以支撐其說法的大量產量的情況下。
令人鼓舞的是，有報告顯示，中國正在測試其自主研發的EUV光刻機，預計在2025年第三季開始試生產。與華為關係密切的矽開瑞公司已成功獲得28億美元的融資，將與阿斯麥（ASML）競爭，提供國產EUV光刻機。因此，即使中芯國際在自主生產5奈米晶片方面面臨障礙，他們仍有可能利用第三方技術實現更先進的晶圓生產，但前提是這些供應商能夠取得成功。
新聞來源：Fixed Focus Digital
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