據報導，為了在光刻技術上取得重大進步，中國工程師在使用 ASML 的 DUV 設備時遇到了困難，導致意想不到的複雜情況，促使他們尋求幫助。
逆向工程 ASML DUV 工具的挑戰：謙卑的經歷
由於缺乏最先進的光刻設備，中國半導體產業在提升晶片產量方面面臨關鍵障礙。近年來，這種短缺阻礙了中芯國際等公司大幅提升產能。為了實現自給自足，中國工程師似乎急於對ASML的DUV光刻機進行逆向工程，《國家利益》雜誌的一篇報導詳細介紹了這一過程。
有趣的是，有消息稱，近幾個月來，中國人被發現試圖對 ASML DUV 光刻機進行逆向工程。
但在拆卸一台較舊的ASML系統時，中國人似乎將其損壞，迫使ASML致電ASML，請求其派人來維修。 ASML的技術人員抵達中國後，很快發現這台機器並非簡單的故障，而是因為中國人試圖將其拆卸後重新組裝而損壞。
此事既諷刺又好笑，耐人尋味。雖然該說法的具體來源尚未核實，但考慮到中國在半導體領域取得突破的雄心壯志，這種說法頗具可信度。機器故障後，中國工程師選擇聯繫阿斯麥公司進行維修，阿斯麥公司也迅速揭露了故障原因。
對深紫外光刻機進行逆向工程絕非易事；它需要管理精密、高精度組件的專業知識。 ASML 以其尖端的光刻設備而聞名，因此「解碼」其複雜的技術極具挑戰性。值得注意的是，該設備包含詳細的校準基準、複雜的測試協議和專用組件，這些都需要 ASML 的專業知識才能有效運作。
儘管中國在自主研發光刻技術方面取得了長足進步，但在達到阿斯麥設定的性能標準方面仍存在差距。中國在半導體技術自主研發方面的持續追求，凸顯了其複雜性以及未來面臨的嚴峻挑戰。
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