Grande avanço: SMIC da China testa primeira máquina DUV de fabricação própria para escalar produção de 5 nm

Grande avanço: SMIC da China testa primeira máquina DUV de fabricação própria para escalar produção de 5 nm

A indústria de semicondutores na China parece estar à beira de um avanço significativo, já que relatórios recentes indicam que a SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) está testando sua primeira máquina interna de litografia ultravioleta profunda (DUV).

As aspirações da China na fabricação de chips impulsionam o desenvolvimento interno de DUV para atender às necessidades do mercado de IA

O aumento na demanda por semicondutores na China pode ser atribuído, em grande parte, ao rápido crescimento de empresas nacionais de IA que buscam desenvolver tecnologias de computação inovadoras. Para fortalecer esse impulso, o governo chinês está incentivando ativamente as principais indústrias a se voltarem para capacidades de produção autossuficientes. De acordo com uma reportagem do Financial Times, a SMIC está experimentando equipamentos de litografia DUV desenvolvidos pela startup Yuliangsheng, sediada em Xangai. Se esses testes forem bem-sucedidos, poderão representar um momento crucial para as ambições da China na fabricação avançada de semicondutores.

Tradicionalmente, a SMIC depende fortemente da empresa holandesa ASML para suas máquinas litográficas. No entanto, devido às atuais restrições de exportação dos EUA, a SMIC só tem acesso a tecnologias DUV mais antigas, como a DUV de imersão precoce, que lhe permitiu atingir capacidades de produção de até 7 nm. Essa dependência, aliada às limitações no avanço da produção com tecnologias ocidentais, exigiu uma mudança para soluções nacionais. Atualmente, a SMIC está se concentrando em testar a produção de 7 nm com as máquinas DUV da Yuliangsheng.

A ASML acredita que os mercados globais de semicondutores atingirão uma avaliação de US$ 1 trilhão até 2023, impulsionados pela enorme demanda por IA 1
Crédito da imagem: ASML

Há alegações de que esses sistemas DUV domésticos poderiam potencialmente permitir a produção de até 5 nm, embora atualmente enfrentem taxas de rendimento alarmantemente baixas. Esse desafio surge devido às complexidades associadas à obtenção de tamanhos de nó tão pequenos usando técnicas de ultravioleta profundo, necessitando de múltiplos processos de padronização que podem levar a discrepâncias de alinhamento acumuladas e, consequentemente, a rendimentos reduzidos. No entanto, dado que o principal objetivo dos fabricantes chineses de semicondutores é aumentar a capacidade de produção, a SMIC pode estar preparada para aceitar taxas de rendimento mais baixas, como tem sido a tendência no passado.

O impulso estratégico da China para impulsionar a produção de chips é impulsionado fundamentalmente pela crescente demanda no setor de IA. Relatórios recentes sugerem que os fabricantes pretendem aumentar exponencialmente sua produção de chips de IA para atender às necessidades do mercado.

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