Samsung rozpoczyna w marcu testy sprzętu EUV w zakładzie Taylor, zatrudniając na miejscu 7000 pracowników, aby przyspieszyć rozwój technologii GAA 2 nm

Stany Zjednoczone są na dobrej drodze do stania się liderem w produkcji zaawansowanych półprzewodników, ponieważ Samsung Electronics przygotowuje się do testów urządzeń do ekstremalnego ultrafioletu (EUV) w swoim zakładzie w Taylor w Teksasie, które rozpoczną się w marcu. Inicjatywa ta jest częścią szerszej strategii Samsunga, mającej na celu ułatwienie płynnego przejścia do produkcji, a dedykowany zespół nadzoruje instalację i konfigurację tych najnowocześniejszych maszyn. Obecne wydarzenia wskazują, że Samsung zbliża się do celu, jakim jest masowa produkcja 2-nm płytek Gate-All-Around (GAA) nowej generacji bezpośrednio na terytorium USA.

Ambitne plany Samsunga na przyszłość w Teksasie

Według raportu Korea Economic Daily, pierwszy etap budowy zakładu Taylor będzie kluczowy dla testowania i instalacji kluczowych narzędzi EUV, a rozpoczęcie produkcji na pełną skalę planowane jest na drugą połowę 2026 roku. Szczegóły dotyczące potencjalnego rozpoczęcia produkcji Exynos 2600 lub innych układów SoC (System-on-Chip) w tym zakładzie pozostają nieujawnione. Potwierdzono jednak, że dzięki znaczącej umowie partnerskiej o wartości 16, 5 miliarda dolarów, będą tu produkowane układy scalone Tesli do pojazdów autonomicznych, AI5 i AI6.

Ponadto Samsung planuje ubiegać się o Tymczasowe Pozwolenie na Użytkowanie (TCO) dla Zakładu 1, co stanowi kluczowy krok biurokratyczny, potwierdzający, że obiekt spełnia niezbędne przepisy bezpieczeństwa. Aby przyspieszyć ukończenie budowy, Samsung skierował na miejsce około 7000 pracowników, a nowy, sześciopiętrowy budynek ma pomieścić 1000 pracowników po jego ukończeniu. Co istotne, zakład Taylor zajmuje imponującą powierzchnię 4, 85 miliona metrów kwadratowych, przewyższając dwa inne główne zakłady firmy w Pyeongtaek i Hwaseong.

Inwestycja w maszyny EUV firmy ASML wiąże się z wysokimi kosztami, jednak jest to inwestycja niezbędna dla Samsunga, aby osiągnąć przyzwoite wskaźniki wydajności w masowej produkcji 2-nm płytek GAA. Obecnie wydajność uzyskiwana dzięki najnowocześniejszym procesom litograficznym oscyluje wokół 50%, a poprawa tych wskaźników ma kluczowe znaczenie dla realizacji celu firmy, jakim jest osiągnięcie rentowności w odlewniach do 2027 roku. Biorąc pod uwagę, że każda maszyna EUV kosztuje około 500 miliardów wonów (około 339, 3 miliona dolarów), to zobowiązanie finansowe jest znaczące, zwłaszcza że Samsung odnotował deficyt w wysokości 680 milionów dolarów w trzecim i czwartym kwartale 2025 roku.

Na szczęście strategiczna dalekowzroczność Samsunga pozwoliła firmie zabezpieczyć wystarczającą przestrzeń na terenie kampusu Taylor pod przyszłą rozbudowę, potencjalnie mieszcząc nawet 10 dodatkowych zakładów. Wcześniej zakład ten koncentrował się na produkcji w procesie 4 nm; jednak niechęć TSMC do wprowadzania zaawansowanych technologii na rynek amerykański skłoniła Samsunga do wykorzystania tej okazji, z początkowym celem masowej produkcji na poziomie 50 000 płytek.

Więcej szczegółów można znaleźć w źródle oryginalnym: Korea Economic Daily

Aby uzyskać więcej informacji, odwiedź: Źródło i obrazy