Opóźnienia w wypłatach dotacji Samsunga na inwestycję w zaawansowaną technologię półprzewodników w zakładzie Texas Taylor

Opóźnienia w wypłatach dotacji Samsunga na inwestycję w zaawansowaną technologię półprzewodników w zakładzie Texas Taylor

Zakład Samsunga w Taylor w Teksasie ma stać się kluczowym ośrodkiem zaawansowanej produkcji półprzewodników. Jednak ostatnie wyzwania znacząco wpłynęły na pozycję konkurencyjną Samsunga, szczególnie w porównaniu z liderem branży TSMC. Ponieważ firma napotkała niepowodzenia, konieczne stało się ponowne skalibrowanie strategii inwestycyjnej, co z kolei spowodowało opóźnienia w oczekiwanych dotacjach niezbędnych do pełnego uruchomienia zakładu Taylor.

Zobowiązania finansowe zagrożone: inwestycja Samsunga o wartości 17 miliardów dolarów

Samsung przeznaczył pokaźną kwotę 17 miliardów dolarów na zakład Taylor, zobowiązanie, które obecnie jest zagrożone z powodu wstrzymanych negocjacji w sprawie dotacji. Chociaż wstępne memorandum o porozumieniu (MOU) zostało podpisane z rządem USA 15 kwietnia, ostatnie raporty Business Korea wskazują, że oczekiwane płatności jeszcze się nie zmaterializowały. Zmieniający się krajobraz polityczny, szczególnie po niedawnym zwycięstwie Trumpa w wyborach, zmusił Samsunga do znacznej ponownej oceny swoich strategicznych planów inwestycyjnych.

Wyzwania związane z konkurencją i produkcją

Co więcej, Departament Handlu USA niedawno ogłosił przyznanie Micronowi znacznej dotacji w wysokości 6,165 mld USD — umowa ta została sfinalizowana wkrótce po wcześniejszym MOU Samsunga. Podczas gdy Samsung podpisał MOU dziesięć dni wcześniej, opóźnienie w finansowaniu naraża jego ambitną inwestycję w wysokości 17 mld USD na ryzyko.

Kluczowym czynnikiem przyczyniającym się do opóźnienia finansowania wydaje się być ostatnie spowolnienie inwestycji Samsunga w zaawansowaną technologię odlewniczą, w szczególności z powodu słabej wydajności procesów 3 nm Gate-All-Around (GAA). Raporty wskazują, że wskaźniki wydajności dla technologii 3 nm drugiej generacji wynoszą zaledwie 20%, znacznie poniżej początkowego celu 70%. Ten rozczarowujący wynik doprowadził do zmniejszenia dynamiki wzrostu Samsunga w tym ważnym sektorze.

Perspektywy na przyszłość i opóźnienia w dostawach sprzętu EUV

Problemy firmy spowodowały również opóźnienia w dostawie krytycznego sprzętu litograficznego Extreme Ultraviolet (EUV) od ASML do zakładu Taylor. Pomimo tych przeszkód na horyzoncie widać pozytywne zmiany. Insiderzy sugerują, że Samsung aktywnie dąży do rozwoju technologii 2 nm nowej generacji o nazwie kodowej „Ulysses”. W miarę rozwoju tej inicjatywy społeczność półprzewodników jest bardzo wyczulona na jej wyniki.

Jeśli chodzi o dotacje, wsparcie finansowe Samsunga dla zakładu Taylor pozostaje uzależnione od jego zobowiązania do dalszego finansowania przedsięwzięcia. Tylko dzięki stałym inwestycjom firma może zabezpieczyć niezbędne dotacje, aby przyspieszyć realizację swoich ambicji w zakresie półprzewodników.

Biorąc pod uwagę szybki rozwój branży półprzewodników, pozostaje pytanie, w jaki sposób Samsung poradzi sobie z tymi wyzwaniami, aby ugruntować swoją pozycję rynkową i ostatecznie zrealizować inwestycję w Teksasie.

Źródło wiadomości: Business Korea

Źródło i obrazy

Powiązane artykuły:

Google wprowadza na rynek układ kwantowy „Willow”, przewyższający zaawansowane superkomputery
Mafia: The Old Country – liniowa gra fabularna oparta na silniku Unreal Engine 5

Dodaj komentarz

Twój adres e-mail nie zostanie opublikowany. Wymagane pola są oznaczone *