L’azienda americana di chip “Substrate” punta a ridurre la dipendenza degli Stati Uniti dall’ASML con un’innovativa tecnologia litografica

Il panorama dell’industria dei chip statunitense è sull’orlo di una profonda trasformazione. In questo contesto, una startup chiamata Substrate sta facendo passi da gigante nel settore della litografia, a lungo dominato da ASML, un’importante azienda olandese.

Approccio innovativo del substrato: litografia a raggi X come alternativa conveniente

Attualmente, i produttori statunitensi fanno ampio affidamento su ASML per le apparecchiature avanzate per la litografia su chip, poiché non sono ancora emerse alternative nazionali. Un recente rapporto di Bloomberg ha svelato l’ambizione di Substrate di ridurre questa dipendenza. La startup sta sviluppando apparecchiature per litografia che potrebbero competere con le macchine EUV (Extreme Ultraviolet) di ASML, optando per raggi X a lunghezza d’onda più corta prodotti dagli acceleratori di particelle al posto della luce EUV convenzionale.

Substrate sta costruendo una fonderia di nuova generazione per riportare l’America al predominio nella produzione di semiconduttori. Per raggiungere questo obiettivo, utilizzeremo la nostra tecnologia, una nuova forma di litografia a raggi X avanzata, per alimentarla. L’America ha inventato i semiconduttori. Torneremo a essere leader.pic.twitter.com/1rgnWSYYZG

— Substrate (@substrate) 28 ottobre 2025

L’introduzione di tecniche innovative suscita spesso entusiasmo e scetticismo, e le iniziative di Substrate non fanno eccezione. L’azienda mira a creare un’alternativa nazionale alla tecnologia EUV, sfruttando i raggi X e offrendo una soluzione più conveniente. Con un impressionante finanziamento di 100 milioni di dollari, inclusi gli investimenti del Founders Fund di Peter Thiel, Substrate ha raggiunto una valutazione di 1 miliardo di dollari basata esclusivamente sul suo concetto di litografia avanzata.

Substrate afferma che la sua tecnologia può ridurre significativamente i costi derivanti dall’utilizzo delle apparecchiature EUV di ASML. La startup ha già presentato la sua tecnologia agli addetti ai lavori, che l’hanno definita un’iniziativa encomiabile. Al centro della sua strategia, Substrate utilizza i raggi X, che hanno una lunghezza d’onda inferiore a quella dei 13, 5 nm dell’EUV, promuovendo tecniche multi-patterning più efficaci. Secondo l’azienda, ha ridotto sostanzialmente i costi associati alla litografia su chip grazie a un affidabile processo di flusso maschera/resist.

Motivo di linee tratteggiate bianche su sfondo scuro. — Crediti immagine: Substrato

Immagine in bianco e nero che mostra un motivo di piccoli punti su uno sfondo grigio. — Crediti immagine: Substrato

Tuttavia, la strada da percorrere per Substrate dipende dalla sua capacità di integrare efficacemente la litografia a raggi X nei processi di produzione ad alto volume (HVM).Con la tecnologia EUV ormai consolidata nel settore, la startup potrebbe incontrare difficoltà nell’adottare tempestivamente la sua innovazione. Sebbene questa iniziativa rappresenti un passo significativo verso una maggiore capacità produttiva nazionale nel settore della litografia, affermare di ridurre rapidamente la dipendenza dall’ASML potrebbe essere eccessivamente ambizioso in questa fase.

Fonte e immagini