La société américaine de semi-conducteurs « Substrate » vise à réduire la dépendance des États-Unis à l’égard d’ASML grâce à une technologie de lithographie innovante.

Le paysage de l’industrie américaine des semi-conducteurs est à l’aube d’une transformation majeure. Dans ce contexte, une start-up nommée Substrate fait des progrès significatifs dans le secteur de la lithographie, longtemps dominé par ASML, une importante entreprise néerlandaise.

Approche innovante de Substrate : la lithographie aux rayons X comme alternative rentable

Actuellement, les fabricants américains dépendent fortement d’ASML pour leurs équipements de lithographie de pointe, faute d’alternatives nationales. Un récent article de Bloomberg a révélé l’ambition de Substrate de réduire cette dépendance. Cette start-up développe des équipements de lithographie capables de rivaliser avec les machines EUV (ultraviolet extrême) d’ASML, en utilisant des rayons X de plus courte longueur d’onde produits par des accélérateurs de particules plutôt que la lumière EUV conventionnelle.

Substrate construit une fonderie de nouvelle génération pour redonner aux États-Unis leur suprématie dans la production de semi-conducteurs. Pour ce faire, nous utiliserons notre technologie – une nouvelle forme de lithographie aux rayons X avancée – pour l’alimenter. L’Amérique a inventé les semi-conducteurs. Nous serons à nouveau leaders.pic.twitter.com/1rgnWSYYZG

— Substrate (@substrate) 28 octobre 2025

L’introduction de techniques innovantes suscite souvent à la fois enthousiasme et scepticisme, et les initiatives de Substrate ne font pas exception. L’entreprise ambitionne de créer une alternative nationale à la technologie EUV, en s’appuyant sur les rayons X et en proposant une solution plus abordable. Forte d’un impressionnant financement de 100 millions de dollars, notamment grâce aux investissements du Founders Fund de Peter Thiel, Substrate a atteint une valorisation d’un milliard de dollars, fondée exclusivement sur son concept de lithographie avancée.

Substrate affirme que sa technologie permet de réduire considérablement les coûts liés à l’utilisation des équipements EUV d’ASML. La start-up a déjà présenté sa technologie à des professionnels du secteur, qui ont salué son initiative prometteuse. Au cœur de sa stratégie, Substrate utilise les rayons X, dont la longueur d’onde est plus courte que celle de l’EUV (13, 5 nm), ce qui favorise des techniques de multi-patterning plus efficaces. Selon l’entreprise, elle a considérablement réduit les coûts associés à la lithographie sur puce grâce à un procédé fiable de dépôt de masque et de résine.

Motif de lignes blanches pointillées sur fond sombre. — Crédits photo : Substrat

Image en noir et blanc montrant un motif de petits points sur un fond gris. — Crédits photo : Substrat

L’avenir de Substrate repose néanmoins sur sa capacité à intégrer efficacement la lithographie aux rayons X aux processus de production en grande série. La technologie EUV étant bien implantée dans l’industrie, la start-up pourrait rencontrer des difficultés pour faire adopter rapidement son innovation. Bien que cette initiative représente un pas important vers une plus grande capacité de production nationale dans le secteur de la lithographie, affirmer pouvoir réduire rapidement la dépendance à l’égard d’ASML est peut-être trop ambitieux à ce stade.

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