Samsung startet im März mit 7.000 Mitarbeitern im Werk Taylor EUV-Anlagentests, um die Entwicklung von 2-nm-GAA-Prozessen zu beschleunigen.

Die USA stehen kurz davor, eine führende Rolle in der Halbleiterfertigung einzunehmen, da Samsung Electronics ab März die Testläufe seiner EUV-Anlage (Extreme Ultraviolet) in seinem Werk in Taylor, Texas, vorbereitet. Diese Initiative ist Teil von Samsungs umfassenderer Strategie für einen reibungslosen Übergang zur Serienproduktion. Ein eigens dafür eingerichtetes Team überwacht die Installation und Einrichtung dieser hochmodernen Anlagen. Die aktuellen Entwicklungen deuten darauf hin, dass Samsung seinem Ziel, die Massenproduktion von 2-nm-GAA-Wafern (Gate-All-Around) der nächsten Generation direkt in den USA zu realisieren, einen großen Schritt näher kommt.

Ambitionierte Zukunftspläne für Samsung in Texas

Laut einem Bericht der Korea Economic Daily wird die erste Phase des Werks in Taylor maßgeblich für die Erprobung und Installation wichtiger EUV-Anlagen sein. Die Serienproduktion soll voraussichtlich in der zweiten Jahreshälfte 2026 beginnen. Details zur möglichen Aufnahme der Produktion des Exynos 2600 oder anderer System-on-Chip-Fertigung (SoC) an diesem Standort sind noch nicht bekannt. Es ist jedoch bestätigt, dass Teslas Chips für autonome Fahrzeuge, AI5 und AI6, dank einer bedeutenden Partnerschaft im Wert von 16, 5 Milliarden US-Dollar hier produziert werden.

Darüber hinaus plant Samsung, für Werk 1 eine vorläufige Betriebsgenehmigung (Temporary Certificate of Occupancy, TCO) zu beantragen. Dieser wichtige bürokratische Schritt bestätigt, dass die Anlage die erforderlichen Sicherheitsbestimmungen erfüllt. Um die Fertigstellung des Werks zu beschleunigen, hat Samsung rund 7.000 Mitarbeiter vor Ort eingesetzt. Ein neues, sechsstöckiges Gebäude soll nach seiner Fertigstellung 1.000 Mitarbeitern Platz bieten. Das Werk in Taylor erstreckt sich über beeindruckende 4, 85 Millionen Quadratmeter und übertrifft damit die beiden anderen großen Werke des Unternehmens in Pyeongtaek und Hwaseong.

Die Investition in die EUV-Anlagen von ASML ist zwar kostspielig, aber für Samsung unerlässlich, um in der Massenproduktion von 2-nm-GAA-Wafern zufriedenstellende Ausbeuten zu erzielen. Aktuell liegt die Ausbeute der hochmodernen Lithografieprozesse bei rund 50 %.Eine Verbesserung dieser Werte ist entscheidend für das Ziel des Unternehmens, bis 2027 in seinen Foundry-Aktivitäten profitabel zu werden. Da jede EUV-Anlage etwa 500 Milliarden Won (rund 339, 3 Millionen US-Dollar) kostet, ist diese finanzielle Investition beträchtlich, insbesondere da Samsung im dritten und vierten Quartal 2025 ein Defizit von 680 Millionen US-Dollar verzeichnete.

Glücklicherweise hat Samsung dank strategischer Weitsicht ausreichend Platz auf dem Taylor-Campus für zukünftige Erweiterungen gesichert, wo potenziell bis zu zehn weitere Produktionsanlagen untergebracht werden können. Der Schwerpunkt dieses Standorts lag bisher auf der 4-nm-Fertigung; TSMCs Zurückhaltung, fortschrittliche Technologien auf dem US-Markt einzuführen, hat Samsung jedoch dazu veranlasst, diese Chance zu nutzen und zunächst 50.000 Wafer in Serie zu produzieren.

Weitere Einzelheiten entnehmen Sie bitte der Originalquelle: Korea Economic Daily.

Weitere Einblicke finden Sie unter: Quelle & Bilder