Amerikanischer Chiphersteller „Substrate“ will mit innovativer Lithografietechnologie die Abhängigkeit der USA von ASML verringern

Die US-amerikanische Chipindustrie steht vor einem tiefgreifenden Wandel. In diesem Kontext macht das Startup Substrate Fortschritte im Lithografiesektor, der lange von ASML, einem führenden niederländischen Unternehmen, dominiert wurde.

Substrats innovativer Ansatz: Röntgenlithografie als kostengünstige Alternative

Derzeit sind US-amerikanische Hersteller stark von ASML im Bereich fortschrittlicher Chiplithografieanlagen abhängig, da es bisher keine einheimischen Alternativen gibt. Einem kürzlich erschienenen Bericht von Bloomberg zufolge will das Start-up Substrate diese Abhängigkeit verringern. Es entwickelt Lithografieanlagen, die mit den EUV-Anlagen (Extreme Ultraviolet) von ASML konkurrieren könnten. Dabei setzt Substrate auf kurzwellige Röntgenstrahlung aus Teilchenbeschleunigern anstelle von herkömmlichem EUV-Licht.

Substrate baut eine Halbleiterfabrik der nächsten Generation, um Amerika wieder an die Spitze der Halbleiterproduktion zu bringen. Dafür setzen wir unsere Technologie ein – eine neue Form der fortschrittlichen Röntgenlithografie. Amerika hat die Halbleiter erfunden. Wir werden wieder führend sein.pic.twitter.com/1rgnWSYYZG

— Substrate (@substrate) 28. Oktober 2025

Die Einführung innovativer Techniken ruft oft sowohl Begeisterung als auch Skepsis hervor, und die Initiativen von Substrate bilden da keine Ausnahme. Das Unternehmen hat sich zum Ziel gesetzt, eine heimische Alternative zur EUV-Technologie zu entwickeln, indem es Röntgenstrahlen nutzt und eine kostengünstigere Lösung anbietet. Dank einer beeindruckenden Finanzierung von 100 Millionen US-Dollar, darunter Investitionen aus Peter Thiels Founders Fund, hat Substrate allein aufgrund seines fortschrittlichen Lithografiekonzepts eine Bewertung von 1 Milliarde US-Dollar erreicht.

Substrate behauptet, seine Technologie könne die Kosten für die Nutzung von EUV-Anlagen von ASML deutlich senken. Das Startup hat seine Technologie bereits Branchenkennern vorgestellt, die sie als lobenswertes Unterfangen bezeichneten. Kernstück der Strategie von Substrate ist die Nutzung von Röntgenstrahlen, die eine kürzere Wellenlänge als die 13, 5 nm EUV-Strahlung aufweisen und so effektivere Mehrfachstrukturierungstechniken ermöglichen. Laut Unternehmen konnte die Kosten für die Chiplithografie durch einen zuverlässigen Masken-/Resist-Prozess erheblich gesenkt werden.

Muster aus weißen gestrichelten Linien auf dunklem Hintergrund. — Bildnachweis: Substrat

Schwarz-Weiß-Bild, das ein Muster aus kleinen Punkten auf grauem Hintergrund zeigt. — Bildnachweis: Substrat

Der zukünftige Erfolg von Substrate hängt jedoch maßgeblich von der erfolgreichen Integration der Röntgenlithografie in die Massenproduktion ab. Angesichts der etablierten EUV-Technologie in der Branche könnte das Start-up Schwierigkeiten haben, seine Innovation frühzeitig zu etablieren. Obwohl diese Initiative einen wichtigen Schritt hin zu einer stärkeren heimischen Produktionskapazität im Lithografiesektor darstellt, sind Behauptungen, die Abhängigkeit von ASML dadurch deutlich zu reduzieren, zum jetzigen Zeitpunkt möglicherweise zu optimistisch.

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