美国芯片公司“Substrate”旨在通过创新光刻技术降低美国对ASML的依赖

美国芯片行业的格局正处于重大变革的边缘。在此背景下，一家名为Substrate的初创公司正积极进军光刻领域，该领域长期以来一直由荷兰知名企业ASML主导。

Substrate 的创新方法：X射线光刻作为一种经济高效的替代方案

目前，美国制造商严重依赖ASML的先进芯片光刻设备，因为国内尚未出现替代产品。彭博社最近的一篇报道揭示了Substrate公司旨在降低这种依赖性的雄心。这家初创公司正在开发一种能够与ASML的极紫外（EUV）光刻机相媲美的光刻设备，它采用粒子加速器产生的短波长X射线，而非传统的EUV光。

Substrate公司正在建设下一代晶圆代工厂，旨在重振美国在半导体生产领域的霸主地位。为此，我们将运用我们的技术——一种新型的先进X射线光刻技术——为其提供动力。美国发明了半导体，我们将再次引领行业。pic.twitter.com/ 1rgnWSYYZG

— Substrate (@substrate) 2025年10月28日

创新技术的推出往往既令人兴奋又令人质疑，Substrate 的举措也不例外。该公司旨在利用 X 射线技术，打造一种可替代 EUV 技术的国产方案，并提供更经济实惠的解决方案。凭借包括 Peter Thiel 的 Founders Fund 在内的 1 亿美元雄厚资金支持，Substrate 仅凭其先进的光刻技术理念，估值就已达到 10 亿美元。

Substrate公司声称其技术能够显著降低使用ASML EUV设备的成本。这家初创公司已向业内人士展示了其技术，并获得了业内人士的一致好评。Substrate的核心战略是利用波长比13.5纳米EUV更短的X射线，从而实现更高效的多重曝光技术。据该公司称，他们通过可靠的掩模/光刻胶工艺流程，大幅降低了芯片光刻的成本。

然而，Substrate 的未来发展取决于其能否有效地将 X 射线光刻技术集成到大规模生产 (HVM) 流程中。由于 EUV 技术在业内已相当成熟，这家初创公司在早期推广其创新技术方面可能会面临挑战。尽管这项举措代表着美国在光刻领域提升国内生产能力的重要一步，但现阶段就断言能够迅速减少对 ASML 的依赖可能过于乐观。

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