由于高NA机器需求下降，美国银行下调ASML目标价

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由于市场对其先进的高数值孔径极紫外 (EUV) 光刻机的需求显著放缓，美国银行已调整其对领先光刻设备制造商 ASML 的目标股价。更新后的目标股价为 759 欧元，较之前的 795 欧元有所下调。此次调整同时下调了 2026 年和 2027 年每股收益 (EPS) 的预期。

美银的这一决定是在英特尔一位高管近期发表言论之后做出的，该高管表示，光刻技术在尖端芯片制造中的作用正在减弱。光刻是芯片生产的关键初始步骤，在此过程中，设计被压印到硅片上，以制造数百万个晶体管。这些光刻机的分辨率是最终可生产的电路尺寸的关键决定因素。

现代芯片制造技术越来越重视先进的晶体管设计，这些设计注重垂直分层而非水平扩展。这种设计策略削弱了芯片制造对分辨率的重视。因此，与之前支持7纳米及以下节点生产的EUV系统相比，ASML最新的高NA EUV设备对于最新一代芯片制造技术而言可能不再那么重要。

尽管目标股价下调，但美国银行认为 ASML 的预期企业价值与营业收入之比（EVP/OIT）为 19.6，仍然具有吸引力，尽管低于 22 的历史平均水平。该比率在该行的股票推荐中发挥着重要作用；美国银行在调整目标股价的同时维持“买入”评级。此次估值调整受到预期收益下降的影响，美国银行预计每股收益将下降高达 5%。

美国银行的谨慎态度源于多种因素，包括高NA EUV扫描仪需求停滞、三星在获得NVIDIA内存产品批准方面面临的挑战、英特尔持续存在的生产问题（尚未开始大规模生产其最新的18A芯片制造技术）以及美国对中国芯片制造设备出口的潜在限制。

此外，美国银行预测，ASML 在 2026 年将仅交付四台高数值孔径 EUV 光刻机，这意味着预期出货量将大幅下降 50%。然而，尽管面临这些挑战，对全球人工智能芯片市场的乐观情绪支撑了美国银行对 ASML 的长期展望。该银行预测，到 2030 年，人工智能芯片的需求可能飙升至 7950 亿美元，这可能会刺激对光刻设备的需求增长，尤其是考虑到人工智能芯片的制造需要采用最先进的技术，以满足严格的功率和性能标准。

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