随着台积电和三星争夺2纳米工艺的先机，半导体行业霸主地位的竞争愈演愈烈。与此同时，来自日本的Rapidus公司已成为引人注目的竞争者，提升了日本在尖端光刻技术领域的影响力。近期，Rapidus公司宣布已启动2纳米工艺的试生产，并计划逐步建立生产线以提高产量。然而，与三星在3纳米全环绕栅极（GAA）工艺方面面临的挑战类似，Rapidus公司也面临着诸多不确定性。专家警告称，该公司距离全面量产只有两年时间。如果无法实现这一目标，日本可能会落后于全球竞争对手。
Rapidus 必须在 2027 年启动 2nm 量产
为了提升其2纳米制程能力，Rapidus于去年12月安装了极紫外光（EUV）光刻机。这些光刻机对于量产先进的半导体晶圆至关重要。安装完成后，该公司于7月18日自豪地展示了其首台原型机，标志着其雄心勃勃地迈入半导体生产的精英层级。日本政府通过推动各种政策举措，在支持Rapidus实现其宏伟目标方面发挥了关键作用。
日本政府承诺向 Rapidus 提供总计 1.7 万亿日元（约合 120 亿美元）的巨额投资，以助力其实现 2 纳米晶圆的量产，这无疑为该公司带来了巨大的推动力。预计在 2025 年剩余时间内，日本政府将提供约 1000 亿日元（约合 6.776 亿美元）的支持，用于实现 2 纳米晶圆的量产。尽管拥有这些慷慨的资源，该公司仍面临潜在的挫折，这引发了业内专家的谨慎看法。
日本半导体与数字产业战略委员会委员、熊本大学教授若林秀树表示担忧，他表示，如果Rapidus项目失败，可能会促使日本的半导体和材料公司迁往海外。这种迁移可能会严重削弱日本在市场上的竞争优势。
在其他国家设立生产设施不仅能帮助这些地区雇佣技术工人，还能让外国政府获取尖端技术的敏感信息。吸引Rapidus在日本以外运营的因素可能包括能够以更低的成本获得更广泛的专业技能人才库。
此外，渴望半导体技术进步的国家可能会提供诱人的激励措施来吸引像 Rapidus 这样的制造商。然而，鉴于目前日本政府的强力支持，Rapidus 似乎不太可能选择将业务迁往海外。
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