中芯国际采用7纳米制程生产的麒麟9000S在半导体领域掀起了波澜，彰显了中国致力于缩小与美国技术差距的决心。尽管去年的报道显示中芯国际即将实现5纳米制程，但华为最先进的系统级芯片（SoC）尚未从较旧的7纳米光刻技术过渡。然而，新的说法表明这种情况可能很快就会改变，因为据报道中芯国际5纳米制程的良率在60%至70%之间。然而，这些数据仍饱受质疑，令业界充满期待。
最新传闻：中芯国际 5nm 产量与三星 3nm GAA 技术相比
这一猜测是由微博上一位名为“Fixed Focus Digital”的爆料人引发的，他声称中芯国际的良率指标标志着中国晶圆制造能力的关键性转变。据称，这些良率与三星自主研发的3纳米GAA工艺相当，该工艺为Galaxy Z Flip 7中的Exynos 2500芯片提供支持。然而，外界对此反应不一，一些人强烈质疑这些说法。
@Jukanlosreve提出了一个值得注意的质疑，他与一位中国保密消息人士进行了交流。在此次讨论中，他暗示 Fixed Focus Digital 的断言可能毫无根据。值得注意的是，@Jukanlosreve 此前曾表示，中芯国际正致力于在 2025 年前完成其 5 纳米半导体工艺的开发，但他预测，由于依赖较旧的深紫外 (DUV) 设备，而非较新的极紫外 (EUV) 技术（该技术对于在此类及以下尺寸上实现高效量产至关重要），生产成本可能会飙升至 50%。
鉴于中芯国际实现5纳米量产的时间表，对传闻良率数据的质疑并非毫无道理。此外，搭载鸿蒙OS笔记本电脑的华为X90目前采用的是中芯国际的7纳米工艺。虽然70%的良率通常有利于商业成功，但谨慎对待Fixed Focus Digital的说法仍是明智之举，尤其是在中芯国际尚未展示出足以支撑其说法的大量产量的情况下。
令人鼓舞的是，有报告显示，中国正在测试其自主研发的EUV光刻机，预计将于2025年第三季度开始试生产。与华为关系密切的硅开瑞公司已成功获得28亿美元的融资，将与阿斯麦（ASML）竞争，提供国产EUV光刻机。因此，即使中芯国际在自主生产5纳米芯片方面面临障碍，他们仍有可能利用第三方技术实现更先进的晶圆生产，但前提是这些供应商能够取得成功。
新闻来源：Fixed Focus Digital
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