为了挑战台积电在半导体行业的主导地位，三星电子宣布其 2nm 制造工艺取得了重大进展，以提高其竞争力。
三星在 2nm 工艺上的进步：改变与台积电的竞争格局
三星半导体项目历史上曾遭遇重重困难，尤其受良率和产能问题的影响。例如，该公司早期的3纳米全栅环栅（GAA）工艺良率仅为20%-30%，阻碍了其量产进程。然而，2纳米工艺的前景似乎一片光明。在新的领导层领导下，三星代工部门正致力于重振其半导体业务，而2纳米技术正是这一转型的重中之重。
韩国媒体近期报道显示，三星2纳米制程良率已提升至约40%。这比2025年初的良率大幅提升，表明该公司决心在先进制程领域与台积电竞争。尽管此前遭遇挫折，但三星重振雄风的势头依然引人注目，尤其是在台积电产能日益紧张、潜在客户纷纷寻求与三星达成更优惠定价方案的当下。
尽管如此，三星的 2 纳米技术仍然落后于台积电，后者目前工艺节点的良率高达 80% 左右。随着台积电计划在 2025 年底实现 2 纳米工艺的量产，三星迫切需要在今年下半年提高良率，以保持竞争力。预计这两家半导体巨头之间的竞争将比前几代产品更加激烈。
包括苹果、AMD 和 NVIDIA 在内的主要行业参与者都对三星的 2nm 工艺表现出了兴趣。如果这些公司采取双源战略，三星的晶圆代工市场份额可能会大幅提升，从而进一步重塑竞争格局。
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