三星将于 3 月推出首台用于 1.4nm 制程的高数值孔径 EUV 机器,有望规避关税,与台积电竞争

三星将于 3 月推出首台用于 1.4nm 制程的高数值孔径 EUV 机器,有望规避关税,与台积电竞争

随着三星进军2纳米以下晶圆的开发和量产,其在收购ASML的高数值孔径EUV光刻机方面面临着巨大的财务障碍。然而,这项投资对于三星保持与其在半导体领域的主要竞争对手台积电的竞争力至关重要。据报道,为了缓解由此带来的财务压力,韩国政府正计划取消相关进口设备的关税,这将有助于三星实现其生产目标。值得注意的是,三星已采取积极措施,自今年3月起安装一台高数值孔径EUV光刻机,以促进1.4纳米晶圆的生产。

三星追加高NA EUV机器订单,加速2nm GAA芯片生产

尽管此前有传言称三星将取消其 1.4nm 工艺开发,但看来三星已成功应对即将推出的 2nm GAA 节点带来的良率挑战。Exynos 2600 预计将于今年晚些时候投入量产,这将使三星能够证明其下一代架构能够匹敌台积电 2nm 技术的性能,同时实现更高的产量。在成功量产后,三星计划拓展业务,接受寻求这项先进技术的客户订单。

据《经济新闻日报》报道,韩国政府取消关税的策略旨在提升三星等本土企业在全球市场的竞争力。ASML的每台高数值孔径EUV光刻机售价高达约4亿美元,因此取消关税是降低总成本的关键因素。这一财务策略对三星至关重要,因为它渴望与台积电并驾齐驱,提升其在半导体行业的地位。

三星的承诺包括利用从阿斯麦采购的 EXE:5000 机器,该机器已安装在其华城工厂,用于 1.4nm 制程生产。在专注于 2nm 晶圆制造的近期目标的同时,三星还制定了雄心勃勃的计划,计划在 2027 年前实现 1.4nm 芯片的量产,这为三星在不久的将来建立相对于台积电的竞争优势提供了一个重要的窗口。

欲了解更详细内容,读者可查阅《经济新闻日报》原文。

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